在真空爐內零件滲碳的控制方法

 　本發明涉及的內容,是在真空護內零件滲碳的控制方法,當把碳載體的碳氫化合物氣體通入真空爐內時,可用這種方法進行控制。分別在真空和負壓下的滲碳是眾所周知的。可用碳氫化合物氣體作為氣體滲碳劑,而最常用的是甲烷。在爐內的若干氣體成分是已知的,例如是CH‘和N:,或是CH‘+CO十N:、一H:。用這些方法,由于在氣體和滲碳鋼所需碳量之間沒有形成化學平衡狀態,故必須采取在氣體中供給過多碳的措施,例如通過供給0H4的辦法。這種必要的過多碳氫化合物氣體供給量有個缺點,就是在其反應過程尚未達到鋼件表面便產生游離碳,譬如甲烷的反應CH‘=C+ZH:炭黑由這種游離碳而產生,隨著濃度增高,這種炭黑便成炭黑云而可見。它有兩個缺點:一、是妨礙滲碳;二、是污染滲碳件和爐子。另外在電加熱爐中還有引起短路的危險。為了減少炭黑,早已采用固定脈沖或多少按照數量和時間調節脈沖的方式,對供給真空爐的碳氫化合物氣體量進行控制。但這種方法不能獲得有效結果,而且對于形成一定的滲層深度和一定的邊界含碳量有不足之處,就是為了得到與炭黑形成有關的更好的綜合效果,需要對多數不同滲碳件通過試驗確定脈沖程序。因此,只有在不同條件下做大量試驗。